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플라즈마 잠입 이온을 이용한 나노패턴 가공 장치 및 방법
| 대표분류 | 전기소자 | 구분 | 소액무상특허 |
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| 기술테마 | 전기소자 | ||
| 연구기관 | 한국전기연구원 | 연구자 | 김판겸 |
| 기술내용 | 이전대상 특허번호: 10-1410743(한국) 이전유형: 양도 이전비용 : 220만원(부가세 포함) 비고: 미납연차료는 양수인 부담 본 발명은 플라즈마 잠입 이온을 이용한 나노패턴 가공 장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가속 이온을 이용한 저온 플라즈마 잠입 이온으로 시편의 표면에 다양한 형태의 나노패턴을 형성하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 이에 본 발명은, 전기적으로 절연되며, 플라즈마가 채워지는 진공 챔버; 가공물이 놓여지는 부분으로서, 진공 챔버의 내부에 설치되어 가공물과 함께 회전가능한 받침대; 상기 가공물 및 받침대의 회전을 위한 회전수단; 전도성을 가지면서 가공물을 둘러싸서 가공물을 플라즈마로부터 분리시키며, 전기적으로 가공물과 연결되는 덮개; 적어도 상기 덮개의 한 면 이상에 회전가능하게 구비되고, 가공물의 표면을 따라 배치되는 슬롯;을 포함하며, 상기 슬롯을 회전시켜 형성하고자 하는 나노패턴의 형상에 따라 소정의 각도로 세팅함으로써, 플라즈마로부터 나온 이온이 슬롯을 통해 덮개와 가공물 사이의 공간으로 이끌리게 되어 가공물의 표면에 충돌하게 될 때, 상기 슬롯의 각도에 따라 가공물의 표면에 원하는 나노패턴을 형성할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 플라즈마 잠입 이온을 이용한 나노패턴 가공 장치를 제공한다. |
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